ALD原子層沉積系統是一款獨立可控制的薄膜生長設備，能夠實現全自動工藝控制并包含完整的安全聯鎖功能。ALD應用領域廣泛，如高K柵氧化層、存儲容性電介質、銅互連中高深寬比擴散阻擋層、OLED無針孔鈍化層、MEMS高均勻鍍膜、納米多孔結構鍍膜、特種光纖摻雜、太陽能電池、平板顯示器、光學薄膜以及其他各類特殊結構納米薄膜等。